Sputtertargets aus hochreinem Titan
Reinheit 99,5 %, 99,95 %, 99,98 %, 99,995 %.
Material: reine Titan-Titanlegierung und andere
Technik: Schmieden, CNC-bearbeitet
Sputtertargets aus hochreinem Titan
1. Kerninnovation: Reinheit und Leistung neu definiert
- Produktname: Ultra-Hoch-Sputtertargets aus Titan (Klassen Gr1–Gr12)
- Reinheits-Benchmark:
- Titangehalt: Größer oder gleich 99,95 % (ASTM B348)
- Verunreinigungskontrolle: <0.02% (O, N, C ≤0.005%; Fe ≤0.01%)
- Dichte: 4,51 g/cm³ (±0,02)
- Warum das wichtig ist:
- Filmintegrität: Sub-ppm impurity levels eliminate voids and inclusions, ensuring uniform film thickness (±2%) and adhesion strength (peel test >50 MPa).
- Kornstruktur: 50–100 μm große gleichachsige Körner (REM-verifiziert) reduzieren die Lichtbogenbildung und verbessern die Stabilität der Sputterrate um 30 %.
- Technischer Vorsprung:
- Vakuuminduktionsschmelzen: Ausgangsmaterial mit einer Reinheit von 99,999 %, geschmolzen unter einem Vakuum von 10⁻³ Pa.
- Heißisostatisches Pressen (HIP): 1.200-Grad-/200-MPa-Behandlung zum Schließen der Poren<5 μm.
- CNC-Präzisionsbearbeitung: Toleranzen ±0,05 mm für kritische Abmessungen (z. B. Zieldicke).
2. Anwendungsspezifische-Lösungen
2.1 Halbleiterfertigung
Waferbeschichtung: Gr1-Targets (99,5 % Ti) für dielektrische Gate-Schichten (Oxid/Nitrid-Grenzflächen).
Fallstudie: Reduzierte Partikelkontamination beim Sputtern von 300-mm-Wafern um 80 %.
2.2 Optische Beschichtungen
Antireflexionsfolien: Gr5 (Ti-6Al-4V)-Targets für UV/IR-Optiken (Brechungsindexkontrolle: n=2.2–2,6).
UV-C-Linsen: Erreicht 99,8 % Transmission im Bereich von 200–400 nm.
2.3 Energiespeicher
Festkörperbatterien: Gr7 (Ti-0,2Pd)-Targets für Festelektrolyt-Grenzflächen (Ionenleitfähigkeit: 10⁻³ S/cm).
2.4 Fortschrittliche Elektronik
Flexible Schaltkreise: Gr12 (Ti-0,3Mo-0,8Ni)-Targets für dehnbare Leiterleitungen (Dehnungstoleranz: 300 %).
3. Qualitätssicherung und Compliance
Zertifizierungen:
- ISO 9001: Vollständige Rückverfolgbarkeit vom Rohmaterial bis zum fertigen Produkt.
- ASTM B381: Beständigkeit gegen Wasserstoffversprödung<200 kPa.
- RoHS/REACH: <100 ppm restricted substances.
Testprotokolle:
|
Testmethode |
Parameter |
Spezifikation |
|---|---|---|
|
GDMS |
Verunreinigungsprofilierung |
<0.02% total |
|
SEM/EDS |
Kornmorphologie |
Gleichachsig,<100 μm |
|
XRD |
Phasenzusammensetzung |
>99 % -Ti |
|
Wasserstofftest |
H₂-Gehalt |
<2 ppm (ASTM E1447) |

Beliebte label: Sputtertargets aus hochreinem Titan, China, Hersteller, Lieferanten, Fabrik, maßgeschneidert, niedriger Preis, auf Lager, hergestellt in China, Tantal für Quantencomputer, Titan -Bar fertiggestellt, Tantal für Bildgebungsgeräte, Geschmiedete Titanbar, Molybdän zur Extrusion, Tantal für Teleskope
Ein paar
Sputtertargets aus TitanDer nächste streifen
Sputtertarget aus TitanDas könnte dir auch gefallen
Anfrage senden




















