Sputtertargets aus hochreinem Titan
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Sputtertargets aus hochreinem Titan

Produktname: Sputtertargets aus hochreinem Titan
Reinheit 99,5 %, 99,95 %, 99,98 %, 99,995 %.
Material: reine Titan-Titanlegierung und andere
Technik: Schmieden, CNC-bearbeitet
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Produkteinführung

Sputtertargets aus hochreinem Titan

1. Kerninnovation: Reinheit und Leistung neu definiert​

  • Produktname: Ultra-Hoch-Sputtertargets aus Titan (Klassen Gr1–Gr12)
  • Reinheits-Benchmark:
  • Titangehalt: Größer oder gleich 99,95 % (ASTM B348)
  • Verunreinigungskontrolle: <0.02% (O, N, C ≤0.005%; Fe ≤0.01%)
  • Dichte: 4,51 g/cm³ (±0,02)
  • Warum das wichtig ist:
  • Filmintegrität: Sub-ppm impurity levels eliminate voids and inclusions, ensuring uniform film thickness (±2%) and adhesion strength (peel test >50 MPa).
  • Kornstruktur: 50–100 μm große gleichachsige Körner (REM-verifiziert) reduzieren die Lichtbogenbildung und verbessern die Stabilität der Sputterrate um 30 %.
  • Technischer Vorsprung:
  • Vakuuminduktionsschmelzen: Ausgangsmaterial mit einer Reinheit von 99,999 %, geschmolzen unter einem Vakuum von 10⁻³ Pa.
  • Heißisostatisches Pressen (HIP): 1.200-Grad-/200-MPa-Behandlung zum Schließen der Poren<5 μm.
  • CNC-Präzisionsbearbeitung: Toleranzen ±0,05 mm für kritische Abmessungen (z. B. Zieldicke).

 

2. Anwendungsspezifische-Lösungen​

2.1 Halbleiterfertigung​

Waferbeschichtung: Gr1-Targets (99,5 % Ti) für dielektrische Gate-Schichten (Oxid/Nitrid-Grenzflächen).

Fallstudie: Reduzierte Partikelkontamination beim Sputtern von 300-mm-Wafern um 80 %.

2.2 Optische Beschichtungen​

Antireflexionsfolien: Gr5 (Ti-6Al-4V)-Targets für UV/IR-Optiken (Brechungsindexkontrolle: n=2.2–2,6).

UV-C-Linsen: Erreicht 99,8 % Transmission im Bereich von 200–400 nm.

2.3 Energiespeicher​

Festkörperbatterien: Gr7 (Ti-0,2Pd)-Targets für Festelektrolyt-Grenzflächen (Ionenleitfähigkeit: 10⁻³ S/cm).

2.4 Fortschrittliche Elektronik​

Flexible Schaltkreise: Gr12 (Ti-0,3Mo-0,8Ni)-Targets für dehnbare Leiterleitungen (Dehnungstoleranz: 300 %).


 

3. Qualitätssicherung und Compliance​

Zertifizierungen:

  • ISO 9001: Vollständige Rückverfolgbarkeit vom Rohmaterial bis zum fertigen Produkt.
  • ASTM B381: Beständigkeit gegen Wasserstoffversprödung<200 kPa.
  • RoHS/REACH: <100 ppm restricted substances.

 

Testprotokolle:

Testmethode

Parameter

Spezifikation

GDMS

Verunreinigungsprofilierung

<0.02% total

SEM/EDS

Kornmorphologie

Gleichachsig,<100 μm

XRD

Phasenzusammensetzung

>99 % -Ti

Wasserstofftest

H₂-Gehalt

<2 ppm (ASTM E1447)


 

titanium sputtering targets42

 

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