Sputtertargets aus Titan

Sputtertargets aus Titan

Sputtertargets können je nach Arbeitsprinzip in rotierende Targets, ebene Targets und Multibogentargets unterteilt werden.

Es kann je nach Material in reines Nichteisenmetall-Target, reines Titan-Ti, reines Nickel-Ni, Chrom Cr, Niob Nb, Aluminium Al und Molybdän Mo unterteilt werden. Grundsätzlich können alle Arten von Metallen als Targets verwendet werden. Als Sputtertargets können wir anbieten: Legierungstargets, Zirkonium-Aluminium-ZrAl, Nickel-Chrom-NiZr, Titan-Aluminium-TiAl, Titan-Nickel-TiNi, Nickel-Chrom-NiCr, Kupfer-Titan-TiCu usw. Das Metallverhältnis des Legierungstargets ist beispielsweise Titan-Aluminiumlegierung: 50:50 Gew.-% Massenverhältnis, 80:20 Atom-% Atomverhältnis.

Produktname:Titan-Sputtertarget

Reinheit:99.5%, 99.95%, 99.98%, 99.995%.

Größe:Durchmesser 300*40mm, Durchmesser 300*25mm, Durchmesser 100*40mm, Durchmesser 99*40mm, Durchmesser 65*40mm usw. Oder als Kundenzeichnungen.

Material:

1. Reines Titan: GR1 GR2

2. Titanlegierung: Gr5-Titan, Titanaluminium TiAl, Titannickel TiNi, Titanchrom TiCr, Titanzirkonium TiZr, Kupfertitan TiCu usw.

3. Andere Materialien: Zirkonium-Sputtertargets, Chrom-Sputtertargets, Wolfram-Sputtertargets, Kupfer-Sputtertargets usw.

Anwendungen:Dekorative Beschichtung, Beschichtung von Hardware-Werkzeugen, Halbleiter, Flachbildschirme

Merkmale:Wettbewerbsfähige Preise, hohe Reinheit, raffiniertes Korn, ausgefeilte Mikrostruktur

(durchschnittliche Korngröße < 20 µm), Halbleiterqualität

Detaillierte Bilder:

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