Titan Target Sputtering
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Titan Target Sputtering

Produktname: Titan-Ziel-Sputtering
Material:
Reines Titan: GR1 GR2

Reinheit 99,5%, 99,95%, 99,98%, 99,995%.
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Produkteinführung

Produktname: Titan-Ziel-Sputtering

Material: Reines Titan: GR1 GR2

Reinheit >= 99,6%

Anwendung:Hardware, Dekoration, Werkzeuge, Keramik, Golf und andere Beschichtungsindustrien.

Dimension:

Rundes Sputterziel: 100×40,95×45 €, 80×40, 90×40, 85×35 € und andere spezifische Größen.


Rohr-Sputter-Ziel: 70×7×L900--2000mm, 89,4 mmX7,62 mmX1728mm, 89,4 mmX1728mm, 80mmX10mmX1728mm und andere spezifische Größen.


Platten-Sputterziel: T6-40×W60--800×L600--2000mm und andere spezifische Größen.

Wir können Legierungsziele in unterschiedlichen Proportionen an die Bedürfnisse der Kunden anpassen


Material:

1) Ti/Al-Legierung Ziel (67:33,50:50at%)


2) W/Ti-Legierungsziel (90:10wt%),


3) Ni/V-Legierung Ziel (93:7, gew.)


4) Ni/Cr-Legierung Ziel (80:20, 70:30, wt%),


5) Al/Cr-Legierung Ziel (70:30,50:50at%)


6) Nb/Zr Legierung Ziel (97:3,90:10wt%)


7) Si/Al-Legierung Ziel (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, gew.)


8) Zn/Al-Legierung Ziel


9) Hochreinheits-Chromziel (99,95%, 99,995%)


10) Al/Cr-Legierung Ziel (70:30, 50:50, 67:33, at%)


11) Ni/Cu-Legierung Ziel (70:30, 80:20, gew.)


12) Al/Nd-Legierung Ziel (98:2wt%)


13) Mo/Nb Legierung Ziel (90:10, gew.)


14) TiAlSi-Legierungsziel (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10 ,wt% und at%)


15)CrAlSi-Legierungsziel (Cr/Al/Si=30/60/10 ,wt% und at%)


Detaillierte Bilder des Sputterziels:

Titanium target sputtering 2targets

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